Ti Sputtering Target high purity thin film PVD coating custom made
Titanium
Video
Titanium Sputtering Target Description
Titanium est elementum chemicum cum symbolo Ti et numero atomico 22. Est metalli transitio splendens cum argenteo colore.Punctum liquefactum est (1660±10)℃, ferveret 3287℃.Habet leve pondus, altum duritiem, corrosionem resistentiae omnibus generibus oeconomiae chlorinae.
Titanium corrosioni marinis resistit, et dissolvere potest in instrumentis acidicis et alkalinis.
Admixtio Titanium late adhibetur in aerospace, chemica machinatione, petroleum, medicina, constructione, et aliis campis ob proprietates praestantes, sicut densitas humilis, scelerisque conductivity et corrosio optima resistentia, weldability et biocompatibilitas.
Titanium consectetuer gasorum CH4 et Co2 absorbere potuit, et late in vacuo et ultra-alto systemata vacuum adhibetur.Titanium scopum putris adhiberi potuit ad fabricam retis LSI, VLSI et ULSI, seu materias metallicas obice.
Titanium Sputtering Target Packaging
Nostrum Titanium scopo putris est clare tagged et intitulatum extrinsecus ut identitatem et qualitatem efficientem curet.Magna cura cavetur ne quodvis damnum quod in repositione vel translatione causari possit.
Adepto Contact
Titanium putris scuta RSM sunt ultra altae puritatis et uniformis.Variae formae, munditiae, magnitudinis et pretia praesto sunt.Lorem in producendo altam puritatem tenues pellicularum materias efficiens cum praestantia praestantia ac summa densitate ac minimis possibilibus mediocris magnitudinum frumenti ad usum in forma partium vitreorum semi-conductorum tenuium cinematographicarum ad usum resistentia-graphic display、aerospace、 magnetic recording、taucho screen、tenui cinematographici solaris altilium et aliorum applicationum vaporum physicorum (PVD).Quaeso nobis mitte inquisitionem currentis cursus sapien in scopis salientibus aliisque materiae depositionis non inscriptis.
