Welcome to our websites!

TiAlSi Sputtering Target High purity thin film Pvd Coating Custom Made

Titanium Aluminium Silicon

Description:

Categoria

Admisce Sutlering Target

Formulae chemica

TiAlSi

Compositio

Titanium Aluminium Silicon

Puritas

99.5%,99.9%,99.95%

Figura

Plates,Column Targets,arc cathodes,Custom-made

Processus productionis

PM

Available Location

L≤2000mm,W≤200mm


Product Detail

Product Tags

Titanium Aluminium Silius

Titanium aluminium putris scopum fictum per virtutem metallicam.
Titanium Aluminium Mixtura Silicon in conventione adhibita in machinam autocineticam fabricando.Habet excellentiam excellentiam convenientiam et contentionem induere.Applicatio Ti-Al-Si stannum signanter prorogare potuit vitam machinarum partium circiter 35%.Quod ad applicationem in motorcycle et in rota automotiva, melius castabilitatem, machinabilitatem, lassitudinem resistentiam et duritiam ictum quam A356 Aluminium exhibet.

Aluminium stannum rapide solidificatum obtineri potuit per processum solidificationis rapidam vocatum "liquefactum lana", quod superiores proprietates generat in comparatione aluminii conventionalis mixturae, una cum microstructura subtilissima et plus flexibilitate in offensione.Materia potentia est in industria aircraft ad restituendum Titanium basis mixturae in 150-300℃ adhibita.

Per depositionem processus scutorum TiAlSi, TiAlSi/TiAlSiN sigillatim formari potuit sicut multi-strati stratorum cristallinarum qualitas cum maxime structuris cubicis.Hae multi-strae coatings has materias pro duris coatingis fecerunt ad augendam vitam instrumentorum ad ferendum asperis adhibitis.

Titanium Aluminium

Nostrum Titanium Aluminium Silicon scopo putris clare tagged et intitulatum extrinsecus ut efficiens identitatem et qualitatem dicionis curet.Magna cura cavetur ne quodvis damnum quod in repositione vel translatione causari possit.

Adepto Contact

Titanium Aluminium RSM scuta salientis sunt ultra altae puritatis et uniformis.Variae formae, munditiae, magnitudinis et pretia praesto sunt.Lorem in producendo altam puritatem tenues pellicularum materias efficiens cum praestantia praestantia ac summa densitate ac minimis possibilibus mediocris magnitudinum frumenti ad usum in forma partium vitreorum semi-conductorum tenuium cinematographicarum ad usum resistentia-graphic display、aerospace、 magnetic recording、taucho screen、tenui cinematographici solaris altilium et aliorum applicationum vaporum physicorum (PVD).Quaeso nobis mitte inquisitionem currentis cursus sapien in scopis salientibus aliisque materiae depositionis non inscriptis.


  • Priora:
  • Deinde: