TiSi Sputtering Target High purity thin film Pvd Coating Custom Made
Titanium Silicon
Video
Titanium Silicon Sutlering Target Description
Nitride coating super-dura formari potuit cum Titanium Silicon cum NItrogen gasi in processu depositionis componitur.Elementum Pii praesens efficit oxidatio alta morum resistentia, dum Titanium - duritiem.Praeclaram lapsum resistentiae proprietatem exhibere potuit etiam in temperaturis valde elevatis.Instrumenta secans a TiSiN in coating deposita est specimen summae velocitatis et molendi duri, praesertim in siccitate incisionis, et cum nonnullis supermis admixtionibus agere, sicut Nickel et Titanium basi admixtorum.
Nostra propria TiSi scuta et possessiones
Ti-15Siad% | Ti-20Siad% | Ti-25Siad% | Ti-30Siad% | |
Puritas (%) | 99.9 | 99.9 | 99.9 | 99.9 |
Densityg/cm3. | 4.4 | 4.35 | 4.3 | 4.25 |
Gpluvia Magnitudo(µm) | 200/100 | 100 | 100 | 100 |
Processus | VAR/HIP | HIP | HIP | HIP |
Societas nostra multos annos experientiae habet ut scuta putris fabricandi ad instrumenta secanda fingenda.Ti-15Si at%, liquatione vacuo fabricata, structuram homogeneam habet, puritatem altam et humilem contentus gas.Praeterea supplemus etiam Ti-15Si ad %、Ti-20Si ad % et Ti-25Si ad% productam per potentiam metallicam.Scuta nostra TiSi egregias habent proprietates mechanicas, quae eas non capiunt ad crepitum et defectum structurae.
Titanium Silicon Sutlering Target Packaging
Nostrum Titanium Silicon scopo putris est clare tagged et intitulatum extrinsecus ut efficiens identitatem et qualitatem dominii curet.Magna cura cavetur ne quodvis damnum quod in repositione vel translatione causari possit.
Adepto Contact
RSM's Titanium Silicon scuta putris sunt ultra altae puritatis et uniformis.Variae formae, munditiae, magnitudinis et pretia praesto sunt.Lorem in producendo altam puritatem tenues pellicularum materias efficiens cum praestantia praestantia ac summa densitate ac minimis possibilibus mediocris magnitudinum frumenti ad usum in forma partium vitreorum semi-conductorum tenuium cinematographicarum ad usum resistentia-graphic display、aerospace、 magnetic recording、taucho screen、tenui cinematographici solaris altilium et aliorum applicationum vaporum physicorum (PVD).Quaeso nobis mitte inquisitionem currentis cursus sapien in scopis salientibus aliisque materiae depositionis non inscriptis.