Ut omnes novimus, methodi communiter adhibiti in vacuum membranarum perspirationem vacuum sunt et ion putris.Quid interest inter perspirationem tunicam et putris tunicam Multipopulus tales habent quaestiones.Sit vobiscum differentiam inter perspirationem efficiens et putris efficiens
Vacuum cinematographicum calefacere datam transspirationem ad temperaturam determinatam mediante resistentia calefactionis vel electronici trabes et laseris conchentis in ambitu cum gradu vacuo non minus quam 10-2Pa, ita ut energiae scelerisque vibrationis molecularum vel atomi in notitia excedunt energiam ligatricem superficiei, ut multae moleculae vel atomi transspirationis vel augeantur, et eas immediate substratae ad cinematographicam formam deponant.Ion putris efficiens utitur magno obiurgatione motus positivi ionum generatorum gas missione sub effectu campi electrici ut scopum bombardae ut cathode, ita ut atomi vel moleculae in scopum evadant et depositum in superficie fabricae patellae formant. amet requiritur.
Frequentissima methodus vacui transspirationis efficiens est resistentia methodi calefactionis.Commoda eius sunt simplicia structurae calefactionis principium, humilis sumptus et opportuna operatio.Incommoda eius sunt quod non convenit metallis refractariis et calidis instrumentis repugnantibus.Electron trabes calefactio et laser calefactio superare incommoda resistendi calefactio potest.In electronico trabes calefactio, electronica trabs focused directe ad datam testaceam calefacere adhibetur, et in motu energiae electronici trabes caloris vis fit ut notitia transpirat.Laser calefactio laser potentiae altae utatur sicut calefactio principii, sed propter magnum sumptus laser potentiae summus, solum in paucitate investigationis laboratorium adhiberi potest.
Putris scientia differt a arte vacuo transpirat.Putris ad phaenomenon refertur, quod particulas bombardas ad superficiem corporis (scopum) remittit, ut solida atomi vel moleculae e superficie emittantur.Pleraque emissae particulae atomicae sunt, quae struentes atomi saepe dicuntur.Sputa particulae ad scuta testandi adhibita electrons, iones vel neutrae particulae esse possunt.Quia iones faciliores sunt ad industriam requiritur motuum sub electrico campo, iones plerumque selectae sunt ut particulae testaceae.
Putris processum fundatur in ardore missionis, hoc est, putris iones ex gasis solvendis.Diversae putris artes, variae ardoris fungi modos.dc Diode putris utitur dc ardore pituita;Triode putris est rutilans sanies fervida cathode fulta;RF putris utitur RF meridiem pituita;Magnetron putris est ardor emissio ab agro magnetico annularis regente.
Comparato vacuo transpirationis membrana, putris litura multa commoda habet.Si aliqua substantia potest esse aspersis, elementis praecipue et componit cum puncto alto liquefacto et depresso vapori pressione;Adhaesio inter debellare veli substrata bona est;Princeps densitatis film;Crassitudo pellicularum potest moderari et iteratio est bona.Incommodum est, quod apparatum complexum est et cogitationes altas intentione requirit.
Praeterea methodus et putris compositio transpirationis methodus est ion plating.Commoda huius methodi valent adhaesio inter cinematographicum et subiectum, altum rate depositionis et densitatis cinematographici.
Post tempus: May-09-2022