Vacuum coating refert ad fontem evaporationis calefactionis et evaporationis in vacuo vel saliente cum bombardis accelerato, eumque in superficie subiecti deponens, ut unum iacuit vel multi-strati cinematographicum formare.Quod est principium vacui vestitionis?Deinde editor RSM id nobis introducet.
1. Vacuum evaporatio coating
Evaporatio efficiens requirit ut distantiam inter vapores moleculas vel atomos ab evapora- tionis fonte et substrata, ut liniatur, minus sit quam medium liberum iter gasi residua molecularum in cubiculi litura, ita ut vaporum molecularum. evaporatio potest attingere superficiem subiecti sine collisione.Ut sit amet purus ac purus iaculis consequat non ac urna.
2. Vacuum putris coating
In vacuo, cum acceleratrices solido colliduntur, ex una parte, crystallum laeditur, ex altera parte, cum atomis, quae crystallum faciunt, collidunt, ac demum atomi seu moleculae in solidi superficie. externus putris.Putris materia involutum est ad tenue velum formandum, quod putris vacuum dicitur.Putris multi modi sunt, inter quos prima quaeque diodus putris est.Secundum diversa scuta cathode, in directum currentem (DC) et frequentiam altam dividi potest (RF).Numerus atomorum per impactionem superficiei scopum cum ion labefactis rate putris appellatur.Magno putr rate, celeritas formationis veli velocitas est.Putris rate se habet ad energiam et speciem ionum et ad scopum materiae genus.Generaliter, putris rate augetur cum incremento industriae humanae, et putris aestimatio metallica praestantior est.
Post tempus: Iul-14-2022