Magnetron putris efficiens est nova methodus vaporum corporis efficiendi, comparatus cum methodo tunicae evaporationis antiquiore, utilitates eius in multis aspectibus satis admirabiles sunt.Sicut technologia perfecta, magnetron putris in multis agris applicatus est.
Magnetron putris principium:
Orthogonalis campus magneticus et campus electricus adduntur inter polum scopo putri (cathode) et anode, et gasi iners (plerumque Ar gas) repletum in alto cubiculi vacuo.Magnes permanens 250-350 gaus magneticum campum in superficie materiae scopum facit, et campus orthogonalis electromagneticus cum alta intentione electrici componitur.Sub effectu campi electrici, Ar gas ionizationis in positivis iones et electrons, clypeum et pressionem negativam habet, a scopo e polo ab effectu campi magnetici et ionizationis gasi laborantis probabilitatis incrementum, altam densitatem plasma prope formant. cathode, Ar ion sub vi lorentz actio, accelerare volare in superficiem scopo, superficiem scopum incutere in magna celeritate, Sternuntur atomi in scopo principium motus conversionis sequuntur ac avolant e superficie scopo alto motu. navitas ad substrata depositionis movendi.
Magnetron putris plerumque in duo genera dividitur: DC putris et RF putris.Principium dc putris instrumento simplex est, et de putri metallico celerius est.Usus RF putris latior est, praeter salientes materias conductivas, sed etiam salientes materias non conductivas, sed etiam praeparatio reactiva putris oxydorum, nitridum et carbidum aliarumque materiarum compositarum.Si frequentia RF crescit, proin plasma putris efficitur.Hoc tempore resonantia cyclotron electronica (ECR) typus proin plasma putris vulgo adhibetur.
Magnetron materia scopum putris efficiens:
Materia scopum metallicum putris, materia globorum mixtura putris efficiens, materia ceramica putris efficiens, borida ceramica materia scoparum putris, carbida ceramica putris materialis target, materia scopa fluoride ceramica putris, materia nitrida ceramica putris materias, scopum oxydatum ceramicum, selenide ceramicum clypeum silicidum ceramicum putris materias, clypeum materiae sulfides ceramici putris, Tellurida clypeum ceramicum putris, alii scopum ceramicum, chromium oxydorum ceramici scopo pii-doped (CR-SiO), indium scopum phosphidum (InP), scopum arsenidum plumbi (PbAs), indium arsenidum scopum (InAs).
Post tempus: Aug-03-2022