Wholesale NiV Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Manufacturer and Supplier |Dives

Nickel Vanadium

NiV Sputtering Target High purity thin film Pvd Coating Custom made Featured Image

Description:

Categoria	Admisce Sutlering Target
Formulae chemica	NiV
Compositio	Nickel Vanadium
Puritas	99.9%，99.95%，99.99%
Figura	Plates，Column Targets，arc cathodes，Custom-made
Processus productionis	Vacuum Melting
Available Location	L≤4000mm, W≤350mm

Mitte ad nos inscriptio

Product Detail

Product Tags

Nickel Vanadium putris Target Description

Aurum saepe applicatur in depositione tabulati ambitus integrati, sed AuSi humilis liquescens compositio saepe formatur si Aurum cum Pii coniungitur, quod laxationem inter varias stratis causaret.Purus Nickel bona electio est ad iacum adhaesivum, dum iacuit obex etiam inter Nickel et Aurum iacuit ne multiplicatio requiratur.Vanadium hanc postulationem perfecte satisfacere potuit cum summo puncto liquefacto et capacitate altae densitatis ampere standi.Ideo Nickel, Vanadium et Aurum tres materiae in ambitu industriae integrae applicatae solent.Nickel Vanadium putris Target fabricatur addendo Vanadium in liquefactum Nickel.Cum parvo ferromagnetismo, magna electio est magnetron putris electronicarum productorum, qui iacuit Nickel et Vanadium iacuit in uno tempore producere.

Ni-7V% Impurity Content

Puritas	Principalis Component(wt%)	Impuritas Chemicals.≤ppm.							immunditiam in total(≤ppm)
	V	Fe	Al	Si	C	N	O	S
99.99	7±0.5	20	30	20	100	30	100	20	100
99.95	7±0.5	200	200	200	100	100	200	50	500
99.9	7±0.5	300	300	300	100	100	200	50	500

Nickel Vanadium Putris Target Packaging

Nostrum Nickel Vanadium scopo putris est clare tagged et intitulatum extrinsecus ut identitatem et qualitatem efficientis invigilet.Magna cura cavetur ne quodvis damnum quod in repositione vel translatione causari possit.

Adepto Contact

RSM's Nickel Vanadium scuta putris sunt ultra altae puritatis et uniformis.Variae formae, munditiae, magnitudinis et pretia praesto sunt.Lorem in producendo altam puritatem tenues pellicularum materias efficiens cum praestantia praestantia ac summa densitate ac minimis possibilibus mediocris magnitudinum frumenti ad usum in forma partium vitreorum semi-conductorum tenuium cinematographicarum ad usum resistentia-graphic display、aerospace、 magnetic recording、taucho screen、tenui cinematographici solaris altilium et aliorum applicationum vaporum physicorum (PVD).Quaeso nobis mitte inquisitionem currentis cursus sapien in scopis salientibus aliisque materiae depositionis non inscriptis.

Priora: WCU Sputtering Target High purity thin film Pvd Coating Custom Made

Deinde: NiCr Sputtering Target High Munditia Tenuis Film Pvd Coating Custom Made