Welcome to our websites!

WMo Sputtering Target High purity thin film Pvd Coating Custom Made

Wolframium Molybdenum Alloy Sputter Target

Description:

Categoria

Admisce Sutlering Target

Formulae chemica

WMo

Compositio

Wolframium Molybdenum

Puritas

99.9%,99.95%,99.99%

Figura

Plates,Column Targets,arc cathodes,Custom-made

Processus productionis

Vacuum liquens ,PM

Available Location

L≤200mm,W≤200mm


Product Detail

Product Tags

Tungsten Molybdenum Putris Target Description

Scopum molybdenum putris Wolframium est genus offensionis putris scopo molybdaeno et tungsten compositum.

Molybdenum elementum chemica oriundus est ex Graeco 'molybdo' quod plumbum significat.Is primus anno 1778 commemoratus est et a W. Scheele observatus est.Solitudo postea facta et nuntiata est a J. Hjelm."Mo" est symbolum chemicum canonicum molybdeni.Numerus atomicus eius in tabula periodica elementorum est 42 cum locatione ad tempus 5 et Group 6, pertinens ad scandalum.Massa atomica relativa molybdaeni est 95.94(2) Dalton, numerus in uncis incertis significans.

Wolfram, etiam wolfram;wolframium, elementum chemicum ortum est ex Swedish "tung sten" significat lapidem gravem (W est wolfram, vetus nomen tungsten mineralis wolframitis).Is primus anno 1781 commemoratus et a T. Bergman observatus est.Solitudo postea facta et nuntiata est a J. et F. Elhuyar."W" est symbolum chemicum canonicum tungsten.Numerus atomicus eius in tabula periodica elementorum est 74 cum locatione ad PERIODUS VI et Group VI pertinentes ad scandalum.Massa atomica relativa tungsten est 183.84(1) Dalton, numerus in uncis incertis significans.

Tungsten Molybdenum Target Packaging

Nostrum Tungsten molybdenum putris scopo clare tagged et intitulatum extrinsecus ut efficiens identitatem et qualitatem obtineat.Magna cura cavetur ne quodvis damnum quod in repositione vel translatione causari possit.

Adepto Contact

RSM tungsten molybdenum putris scuta sunt puritatis et uniformis ultra-altae.Variae formae, munditiae, magnitudinis et pretia praesto sunt.Lorem in producendo altam puritatem tenues pellicularum materias efficiens cum praestantia praestantia ac summa densitate ac minimis possibilibus mediocris magnitudinum frumenti ad usum in forma partium vitreorum semi-conductorum tenuium cinematographicarum ad usum resistentia-graphic display、aerospace、 magnetic recording、taucho screen、tenui cinematographici solaris altilium et aliorum applicationum vaporum physicorum (PVD).Quaeso nobis mitte inquisitionem currentis cursus sapien in scopis salientibus aliisque materiae depositionis non inscriptis.


  • Priora:
  • Deinde: